1、高純四氟化硅是電子和半導體行業中重要的電子特氣之一，主要用于硅化鉭、氮化硅等的蝕刻劑、P型摻雜劑及外延沉積擴散硅源，還可以用于制備電子級硅烷或多晶硅。 由于四氟化硅在高溫火焰中水解可以產生具有高比表面積的熱沉SiO2，還可以用于制作光導纖維用高純石英玻璃。

2、在光纖生產技術中，四氟化硅是制造硅基半導體器件時所采用的離子注入法的重要成分。四氟化硅還廣泛應用于生產水泥、電子材料、太陽能電池元件、復印機感光鼓、特大規模集成電路等產業，隨著激光在有機反應應用的發展，四氟化硅在光敏劑產業也得到了越來越廣泛應用。 

3、四氟化硅的工業化生產主要在美國和日本，如美國的聯合化學公司、普萊克斯公司、空氣產品公司。日本的中央硝子公司、昭和電工化學公司、三井化學公司等。隨著半導體工業的飛速發展，四氟化硅的需求量也越來越大，對其純度要求也越來越高，目前國內也開始大力發展四氟化硅的制備工藝，但純度及產量較低，高純四氟化硅產品仍依賴進口。

4、因此，突破國外半導體新材料制備關鍵技術壟斷封鎖，自主研發低成本高產量的四氟化硅制備技術工藝，實現國產產業化生產，應急攻關關鍵技術核心，滿足市場依賴進口局面，提高企業競爭力，實現國產化具有非常重要的意義。